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mbe-1000全自动直线传样系统
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产品概述 product overview
费勉仪器推出了mbe-1000 cluster分子束外延系统，可进行5×3''，4×4''，单片6'', 单片8''衬底外延生长。该系统可实现全自动传样和生长，非常适用于化合物半导体器件的批量生产。生长室采用双温区衬底加热，实现生长温度均匀可控。mbe-1000系统可定制10个蒸发源端口或12个蒸发源端口。
mbe-1000 cluster全自动传样系统将不同腔体集成在圆形传样腔上，采用360°连续旋转的重载机械臂组件可进行10英寸衬底托盘在进样室，预处理室，生长室和存储腔之间传递。
根据客户需求，费勉仪器提供不同型号的热蒸发源、裂解源、电子束蒸发源和气体源。系统可安装rheed、bfm、rga等，实现对薄膜生长的原位监控。系统可以搭配费勉仪器的mbe束流监测光谱系统，实现可重复性和批量性的完全自动化生长。费勉仪器提供mbe操作软件，包括生长工艺程序编写、自动生长控制和不间断数据记录三大功能，可以执行生长工艺程序控制挡板运动，源炉温度，衬底温度，衬底旋转速度和方向。控制软件包括温度曲线，真空压力曲线，电源输出功率曲线，各系统间传样等工艺需求功能。
技术规格 mechanical specifications
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配置 | mbe-1000 cluster全自动传样系统 |
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生长室 |
腔体尺寸 |
900mm i.d. |
| 极限真空 |
<2×10-10mbar |
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| 液氮冷屏 | 标配 | |
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冷屏通液氮后极限真空 |
<5×10-11mbar |
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衬底加热器最高温度 |
1000℃ |
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衬底加热器温度稳定性 |
pid控制，±0.5℃ |
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衬底最大尺寸 |
8inch |
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衬底最大旋转速度 |
40rpm |
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蒸发源配置 |
选配 |
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独立的蒸发源挡板 |
电机驱动 |
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离子规 |
1×10-3~2×10-11mbar |
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烘烤温度 |
200℃ |
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| 预处理 | 极限真空 |
<8×10-11mbar |
| 液氮冷屏 | 标配 | |
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预处理加热器最高温度 |
450℃ |
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| 离子规 |
1×10-3~2×10-11mbar |
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| 进样室 | 极限真空 |
<1×10-8mbar |
| 腔体水冷夹层 | 选配 | |
| 样品停放台 | 15个 | |
| 红外烘烤灯 | 选配 | |
| 离子规 |
1×10-3~5×10-9mbar |
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传样腔 |
极限真空 |
＜5×10-10 mbar |
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传样时真空 |
＜1×10-9mbar | |
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离子规 |
1×10-3~2×10-11mbar |
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| 存储腔 | 样品停放台 |
3-15个（选配） |
| 系统控制 |
触摸屏操作面板 |
加配 |
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生长工艺程序编写 |
加配 | |
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自动生长控制 |
加配 | |
| 不间断数据记录 | 加配 | |
| 报警保护功能 | 加配 | |
| 联锁功能 | 加配 | |
| 选配 | 出样室 | 选配 |
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ccd |
选配 | |
| 手套箱 | 选配 | |
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磷回收系统 |
选配 | |
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衬底红外测温系统 |
选配 | |
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真空照明系统 |
选配 | |
| sms | 选配 | |
| mbe束流监测光谱系统 | 选配 |
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