| ● 应用:金属，磁性薄膜，半导体异质结； | ● 样品尺寸: 标准旗形样品托； | ● 本底真空：< 5×10-10 mbar； |
| ● 生长源部件：3个cf40（强磁场下生长铁磁材料），2个cf40（生长常规金属），1个cf40（射频等离子源）； | ● 磁场强度：± 9 t，均匀性< 0.1%； | ● 工作温度：室温-1200 k |
| 生长室 | 生长室极限真空：<5×10-10 mbar |
| 超高真空抽气系统：300l/s分子泵（edwards或pfeiffer品牌），包含前级机械泵及配套真空管路、安全阀等；可选配离子泵、tsp等，以实现更好的本底真空 | |
| 真空测量：离子规及pirani真空规，覆盖2×10-11 mbar至大气压的测量范围，并与真空控制系统关联集成，实现系统的安全保护 | |
| 2轴样品架：匹配标准flag-type样品托，工作温度：室温-1200k；温度模块：低温模块、电子束加热模块或direct heating模块 | |
| 蒸发源安装口：6个cf40，可根据用户实际需求进行低、中、高蒸发源的配置 | |
| 磁场强度：±9t，均匀性<0.1% | |
| 可选配离子源（ion source） | |
| 快速进样室 | 本底真空：<5×10-8 mbar |
| 超高真空抽气系统：80l/s分子泵（edwards或pfeiffer品牌），包含前级机械泵及配套真空管路、安全阀、放气阀等 | |
| 真空测量：全量程真空规，覆盖5×10-9 mbar至大气压的测量范围，并与真空控制系统关联集成，实现系统的安全保护 | |
| 样品停放台：6个停放位（可升级至12个停放位） | |
| 样品传递装置：600mm行程传样杆，包含样品托抓取头及法兰调节器 | |
| vat cf63闸板阀，用于生长室与快速进样室的隔断 | |
| 系统集成及控制 | 真空控制及保护系统，集成真空规信号、分子泵控制、蒸发源保护、烘烤保护等功能 |
| 包含蒸发源、样品架的温度控制软件 | |
| 热风式烘烤模块，烘烤温度均匀，拆装方便 |
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