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晶体解理是指在正应力作用下使晶体断裂面沿一定的晶面(即解理面)分离;对于二维层状材料来说,层内是通过很强的共价键或离子键结合,而层间则多是靠较弱的范德华力,一般采用简单的陶瓷棍加胶水的方式,就可以剥离出新鲜高质量的晶面;但对于结构上偏向三维性的材料,例如:金属,由于层间力较强,很难得到平整的解理面。

费勉仪器开发的超高真空低温原位解理系统,在超高真空环境下,可以很好的保护新鲜的样品表面,低温可以提高样品的脆性,得到更加平滑的解理面。该设备与表面分析设备真空互联,可实现原位解离、抛光、转移整套流程,满足不同用户对各种材料表面性质的实验研究,为角分辨光电子能谱仪(arpes)和扫描隧道显微镜(stm)扩展了更丰富的样品来源。

规格说明
● 可实现低温环境解理,最低温度<100k,对于金属等材料来说,脆点以下可以得到更好的解理表面● 可实现超高真空环境解理,真空度优于 5x10-10 mbar
● 可对大尺寸样品实现精准的晶面解理,最大截面尺寸5mm x 5mm● 操作便捷,借助wobble stick可实现原位解理
● 解理面可实现原子层级的平整度● 采用标准的flag type sample holder,兼容性好,可以无缝互联arpes,stm,xps等表面分析设备
● 除了作为独立系统通过真空互联外,该解理台还可以作为兼容模块安装在arpes,stm样品台下,扩大现有系统的研究范围

                                                                                               
标签: 超高真空mbe
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